Nga phát triển máy quang khắc giá rẻ, quyết cạnh tranh với ASML
Tóm tắt
Dự án do nhà khoa học Nikolay Chkhalo dẫn đầu nhằm phát triển các máy quang khắc có năng suất thấp hơn nhưng rẻ hơn so với ASML.
Cập nhật: 19:01 hôm qua
Nội dung
Viện Vật lý Cấu trúc vi mô, thuộc Viện Hàn lâm Khoa học Nga..
Dự án do Nga dẫn đầu nhằm chế tạo máy quang khắc tia cực tím EUV nội địa sử dụng bước sóng 11,2 nm, khác biệt với công nghệ 13,5 nm của ASML. Máy EUV của Nga sử dụng laser xenon, giảm nhiễm bẩn và chi phí. Dự án gồm ba bước: nghiên cứu, xây dựng nguyên mẫu xử lý 60 wafer 200 mm/giờ và mở rộng quy mô sản xuất hệ thống xử lý 60 wafer 300 mm/giờ. Mặc dù thông lượng thấp hơn 37% so với ASML, nhưng máy EUV của Nga vẫn phù hợp với nhu cầu sản xuất quy mô nhỏ. Chuyển sang bước sóng 11,2 nm đòi hỏi một hệ sinh thái mới cho máy quang khắc, bao gồm gương, lớp phủ, mask và chất cản quang.
